Lip-Bu Tan, CEO kompanije Intel, izjavio je da Kina nije značajno iza SAD kada je reč o proizvodnji čipova. Izjavu je dao u intervjuu za Nikkei Asia, gde je govorio i o restrukturiranju Intela i planovima za razvoj foundry biznisa koji bi mogao da parira tajvanskom TSMC-u.
Kada je upitan može li Kina da dostigne SAD u naprednoj proizvodnji čipova u periodu od pet do deset godina, Tan je bio kratak: „Danas mislim da nije toliko daleko iza.“ Ova izjava dolazi uprkos tome što američke sankcije onemogućavaju kineske kompanije da nabave najnovije EUV litografske mašine, neophodne za smanjivanje dimenzija čipova radi boljih performansi.
Tan je naglasio da svaka kompanija, bez obzira na to odakle dolazi, ima svoje prednosti i slabosti. Po njemu, proizvodi koji su najbolji za enterprise sektor i krajnje korisnike na kraju će odrediti ko će uspeti na tržištu.
Kineski proboj u EUV tehnologiji?
Tanove reči dolaze ubrzo nakon što je kinaska kompanija Landau predstavila prvi prototip sopstvenog EUV izvora svetlosti. Prototip navodno postiže vreme rada od 100 sati sa izlaznom snagom od 15W.
Poređenja radi, ASML-ov prvi EUV sistem sposoban za masovnu proizvodnju, model NXE:3400B, isporučivan je sa izvorima snage od 150W, uz mogućnost nadogradnje na 250W. Ta vrednost bila je ključna za konkurentnost u odnosu na DUV imerzijske sisteme. Kineski prototip je daleko ispod tog nivoa snage, ali stručnjaci iz industrije ističu da je samo vreme rada impresivan tehnički korak napred.
https://x.com/lithos_graphein/status/2110787233372426624
Na temu zaostajanja Kine za Zapadom u ovoj oblasti postoje podeljena mišljenja. Elon Musk smatra da bi Kina mogla da prevaziđe ograničenja za dve do tri godine, dok CEO Zeiss-ovog poluprovodničkog biznisa procenjuje zaostajanje na čak 15 godina.
